淺談平面超精研磨工藝
淺談平面超精研磨工藝
煤直接液化裝置上用的金屬密封球閥,其嚴(yán)苛工況對(duì)密封面粗糙度和平面度提出更高的要求,采用傳統(tǒng)的研磨工藝,加工后的零件表面粗糙度只達(dá)到Ra0.4,無(wú)法滿足超精密封技術(shù)要求,超精研磨工藝研究已然成為閥門行業(yè)的一個(gè)重要課題。
下面對(duì)平面密封面技術(shù)要求進(jìn)行簡(jiǎn)要分析
以規(guī)格為6",2500LB煤化工樣機(jī)平面密封面技術(shù)要求為例,其閥體和閥座零件密封面材質(zhì)分別為STL21和NI-WC,硬度均≥45HRC,光潔度要求Ra0.1,平面度要求0.01。尤其閥體平面密封面處于內(nèi)孔底面,具體如圖1所以,技術(shù)要求難點(diǎn)主要體現(xiàn)在如下兩方面:
(1)平面度要求較高。采用車削加工方式,在切削條件理想狀態(tài)下精度可保持在0.02左右(因密封面所處位置原因,無(wú)法采用磨削方式加工)。
(2)粗糙度要求較高。常規(guī)切削方式粗糙度保持在Ra0.8左右,無(wú)法達(dá)到Ra0.1要求。
超精研磨加工
在結(jié)合傳統(tǒng)的研磨工藝基礎(chǔ)上超精研磨各個(gè)工藝環(huán)節(jié)的影響因素進(jìn)行分析,形成圖2所示超精研磨工藝的輸入樹形結(jié)構(gòu)圖。
研磨劑
(1)磨料
碳化硼(B4C)是已知最堅(jiān)硬的三種材料之一,具有高硬度、高耐磨性和易碎性較低等特性,并且在研磨過(guò)程中破碎后仍保持一定的鋒刃,可作為硬質(zhì)合金材料(尤其對(duì)于NI-WC密封面,其硬度≥63HRC)研磨磨料首選。
而對(duì)于粗糙度要求在Ra0.1密封面而言,磨料粒度選用也尤為重要。傳統(tǒng)的研磨采用粒度為W28微粉進(jìn)行研磨,在一定狀態(tài)下研磨粗糙度可達(dá)到Ra0.4,采用差值法,在其基礎(chǔ)上磨料粒度尺寸上升4倍要求,具體粒度選用如表1所示。
(2)研磨機(jī)
濕式研磨對(duì)液態(tài)研磨劑組成要求較高,而研磨液在研磨過(guò)程中主要使磨料均勻分散懸浮在研磨劑中,并起稀釋、潤(rùn)滑和冷卻等作用。錠子油具有極佳散熱性能和良好的防銹性及防腐蝕性,而石蠟具有一定的粘度,使得磨料能懸浮在液體中,將錠子油和石蠟、磨料按照一定比例加熱調(diào)和,可滿足超精研磨需要。但隨著環(huán)境溫度差異配比也存在一定差異,具體以研磨過(guò)程中研磨劑有著良好的流動(dòng)性,短時(shí)內(nèi)磨料無(wú)明顯沉淀現(xiàn)象為準(zhǔn)。
研具
球墨鑄鐵因含有球狀石墨組織,提高了塑性和韌性等機(jī)械性能,耐磨性相對(duì)于其他鑄鐵更好,更加均勻更容易嵌存磨粒,結(jié)晶細(xì)密,組織要均勻,適合于超精研磨用研具,但不允許存在縮孔、縮松以及氣孔、夾砂、砂眼、斷裂等鑄造缺陷,硬度控制在170HB~220HB之內(nèi)。
從遵循母性原則出發(fā),當(dāng)研具表面大于被研磨零件便面時(shí),零件便面的形狀精度很大程度上取決于研具本身。考慮采用平臺(tái)或平板研具對(duì)零件進(jìn)行研磨,密封面平面度要求0.01,為保證研具平面度(通常研具的精度是零件精度的三倍以上),采用三塊經(jīng)過(guò)精磨后的平臺(tái)進(jìn)行三板互研法以達(dá)到真平平面。
當(dāng)被研工件不懂而研具動(dòng)時(shí),研具形體結(jié)構(gòu)的確定應(yīng)在基本滿足剛性的前提下,盡可能考慮到便于夾持,而且體小重量輕,形體結(jié)構(gòu)對(duì)稱,保證運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)等特點(diǎn)??稍谘芯弑砻骈_不少于4條溝槽(如圖3),溝槽可儲(chǔ)藏過(guò)剩的磨料,使磨料不至于淤積而影響加工精度,同時(shí)也可儲(chǔ)藏研磨中產(chǎn)生的切屑,避免劃傷工件表面。還有提高切削能力和加工散熱等作用。
研磨壓力、速度及時(shí)間
(1)研磨
研磨壓力是影響研磨過(guò)程的重要工藝參數(shù)。施加于研具上的力,通過(guò)磨粒而作用到被研磨表面上。研磨壓力對(duì)研磨劑中的磨粒濃度選擇有一定的影響。
當(dāng)磨粒粒度確定后,對(duì)于某一確定單位研磨壓力,有一個(gè)產(chǎn)生最大生產(chǎn)率的磨料濃度。單位濃度過(guò)小,研磨作用就很微弱。隨著單位壓力的增大,研磨作用增加,研磨效率提高,但當(dāng)單位壓力增加到某一數(shù)值后呈現(xiàn)寶盒傾向,研磨效率達(dá)到最大值。此后若再增加研磨壓力,效率反而下降。具體分析為磨粒具有一定的抗壓強(qiáng)度極限,當(dāng)超過(guò)此極限時(shí)就會(huì)被壓碎,使磨料變細(xì),研磨能力下降。一般粗研壓力控制在0.2MPa~0.4MPa,精研壓力控制在0.04MPa~0.1MPa。具體研磨壓力和磨料濃度、研磨效率關(guān)系如圖4所示。
(2)研磨速度
研磨速度是控制余量去除速度和研磨表面質(zhì)量的重要工藝參數(shù)。圖5為工件余量去除、研磨便面粗糙度與研磨速度的關(guān)系曲線。為了獲得規(guī)定的表面粗糙度而必須耗費(fèi)的研磨時(shí)間大于去除余量所需的時(shí)間,就應(yīng)適當(dāng)降低研磨速度,反之一樣,而平面研磨時(shí)速度可參照表2選取研磨速度。研磨速度對(duì)余量去除和表面粗糙度的影響對(duì)研具的磨損影響很大。研磨速度過(guò)快時(shí),研具急劇磨損,可能引起工件的熱變形,直接影響加工精度。因此,為了避免研磨磨損過(guò)快,可根據(jù)實(shí)際情況,在表2基礎(chǔ)上選取1/3~1/2范圍進(jìn)行研磨。
(3)研磨時(shí)間
通常密封面在研磨前,通過(guò)其他加工方式獲得預(yù)加工精度,研磨開始階段,因研磨劑磨粒鋒利,微切削作用強(qiáng),零件研磨表面的幾何形狀誤差和粗糙度較快得以糾正。隨著研磨時(shí)間延長(zhǎng),磨粒鈍化,微切削作用下降,不僅加工精度不能提高,反而因熱量增加造成表面質(zhì)量下降。所以,粗研時(shí)在規(guī)定工藝參數(shù)內(nèi),選用較粗的研磨劑、較高速度和研磨壓力下進(jìn)行研磨,以較快地消除幾何形狀誤差和切去較大的加工余量,通常即可完成粗磨,以密封面全部研磨出為準(zhǔn)。一般精研時(shí)間約為5min~10min,超過(guò)10min研磨效果不明顯。
拋光
完成研磨后的密封面,便面采用酒精或丙酮清洗器密封面,為防止研磨過(guò)程中磨料鑲嵌密封面表面,采用羊毛氈拋光輪上沾一定金屬拋光膏進(jìn)行拋光,以達(dá)到清除表面殘余磨料,并在密封面表面形成氧化膜提高密封面質(zhì)量。
研磨過(guò)程工藝要點(diǎn)
(1)磨前先將零件加工表面和平板清洗干凈,將研磨劑均勻涂于零件待修表面上,并放于研磨板上。
(2)研磨時(shí)用手輕按住零件,使磨痕交叉以提高表面粗糙度等級(jí),研磨一段時(shí)間后,將零件轉(zhuǎn)動(dòng)一定角度再繼續(xù)研磨。同時(shí)適時(shí)、適量添加研磨劑,保證研磨劑流動(dòng)連續(xù)性。
工件研磨千基礎(chǔ)技術(shù)要求
為提高工件超精研磨質(zhì)量和效率,對(duì)研磨前工件平面形位公差、光潔度及研磨余量進(jìn)行定義:
形位公差
平面度保證在0.02范圍內(nèi),超精研磨主要功能提高工件表面光潔度,對(duì)形位公差其輔助修正作用。
粗糙度
粗糙度要求控制在Ra0.8以內(nèi),粗糙度不高,變相增加研磨量江都研磨效率,同時(shí)因研具和工件相關(guān)作用,降低研具使用周期,密封面研磨質(zhì)量得不到保證。
研磨余量
因研磨過(guò)程幾乎無(wú)任何切削作用,對(duì)工件余量切削微乎其微,適量控制研磨余量尤為重要,通常研磨余量控制在0.02mm~0.04mm。
結(jié)束語(yǔ)
通過(guò)對(duì)超精研磨每個(gè)工藝環(huán)節(jié)逐一分析,并和傳統(tǒng)研磨工藝相結(jié)合,形成合力的工藝以滿足超精平面研磨需要,并最終達(dá)到超精冰面研磨需要,并最終達(dá)到超精密封面技術(shù)要求,對(duì)后期煤化工等新品開發(fā)提高了重要的工藝技術(shù)保證,為公司承接嚴(yán)苛工況訂單奠定重要基礎(chǔ)。
產(chǎn)品排行榜
- FD-910LX平面研磨機(jī)
- FD-6BL雙面研磨設(shè)備
- FD-610LX平面研磨機(jī)
- FD-380LX試驗(yàn)型平面研磨機(jī)
- 13-6B雙面研磨機(jī)
- FD-910LP平面拋光機(jī)
- FD-9BL雙面研磨機(jī)(帶修面)
- FD-380LP平面拋光機(jī)
- FD-460LX帶修面平面研磨機(jī)
- FD-610LP平面拋光機(jī)
熱門文章排行
- 什么是研磨行業(yè)的平面度、平行度及...
- 研磨可使工件精度達(dá)到多少毫米
- 平面拋光機(jī)與平面研磨機(jī)有什么特點(diǎn)
- 不銹鋼板鏡面拋光機(jī)原理及其注意事...
- 平面研磨機(jī)與平面拋光機(jī)有什么區(qū)別...
- 鏡面拋光機(jī)所能達(dá)到的鏡面等級(jí)有哪...
- 平面拋光機(jī)拋光的原理
- 匯總研磨設(shè)備的種類_各自用途_圖片
- 拋光技術(shù)在我國(guó)的起源和發(fā)展
- 研磨盤,研磨液,拋光布是成就研磨...