主要用途：
本設(shè)備主要用于藍寶石片、陶瓷片材料的精細拋光。
設(shè)備原理及特點
1. 本設(shè)備為單面精密研磨設(shè)備，采用先進的機械結(jié)構(gòu)和多種先進控制方法，研磨加工效率高，運行穩(wěn)定。
2. 整機采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，設(shè)備參數(shù)設(shè)置和操作簡單方便，系統(tǒng)運行穩(wěn)定性高。
3. 主電機采用變頻調(diào)速控制，實現(xiàn)主機軟啟動、軟停機，降低設(shè)備運行沖擊，減少工件損傷。
4. 工件研磨壓力采用氣缸加壓方式，通過電氣比例閥控制實現(xiàn)壓力的閉環(huán)控制，保證極高的施壓精度與穩(wěn)定性。
5. 上壓盤采用主動驅(qū)動方式，在確保產(chǎn)品研磨速率的前提下保證各工位研磨加工的統(tǒng)一性。
6. 研磨盤與上壓盤都設(shè)置了冷卻水冷卻功能，在保證研磨液發(fā)揮最大效率的同時減少研磨盤面的變形。
7. 設(shè)備自帶盤面修整機，盤面修整后可保證0.01mm的盤面平整度。
設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)